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旋转摆动重力式研磨抛光机

产品简介

旋转摆动重力式研磨抛光机/ 型号:DP-ZYP230

该机为结构,适宜实验室和晶体车间用于对各种晶体、陶瓷、玻璃和其它非金属材料的平面粗磨、细磨和抛光。磨抛度好,效。

产品型号:DP-ZYP230
更新时间:2017-10-24
厂商性质:生产厂家
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旋转摆动重力式研磨抛光机/ 型号:DP-ZYP230

  该机为结构,适宜实验室和晶体车间用于对各种晶体、陶瓷、玻璃和其它非金属材料的平面粗磨、细磨和抛光。磨抛度好,效。

主 要 特 点: 
  1、粘有被磨、抛材料的载料块,由摆动支撑架上的减速电机(无级调速)驱动载料块,使其不论何种原因,都能主动地旋转起来。避免了因载料块不旋转而导致被磨、抛材料磨、抛偏的问题,即促使“TTV"——片子整体厚度变化越趋变小;     

 2、粘有被磨、抛材料的载料块支撑架,由往复摆动装置可实现5度角的左右摆动(其摆动频率无级可调),并可摆出(或不摆出)研磨盘的外径。同样也是解决被磨、抛材料整体厚度变化(TTV)问题。假如没有上述载料块主动旋转装置,会出现载料块时转时不转的随机状况,即使载料块左右摆动也不能从根本上解决 “TTV"问题;    

  3、研磨盘、抛光盘即主盘可实现由脉宽调制制做的恒率输出电源控制的无级调速旋转;
 4、载料块旋转由电机驱动无级调速,并可分别立调控;

5、载料块支撑架摆动由电机驱动无级调速,并可分别立调控;    

6、LED显示研磨、抛光盘转速; 

7、装有可设定、显示的自动定时器; 

8、配有个修整块,用来修正研磨盘的平整度;                      

9、磨抛盘下方水槽底板有定角度的倾斜至出水口,可使研磨时的沉淀磨料     顺利地流向出水口大大减轻了操作者清除剩余磨料的劳动强度。
 
 
主要标: 
 
     研磨盘、抛光盘直径:230毫米  / 3 05毫米

    主盘转速:0~250转/分 无级调速

    zui大磨抛直径:90毫米 / 115毫米

    载料块作位置:2个(可按客户需求制做如桃形孔等形状的载料块)

   定时范围:99小时59分钟

   主电机率: 245瓦4个

   减速电机率:40瓦(合计)

   载料块支撑轮转速:0~300转/分

   载料块支撑架摆动频率:0~30次/分

   载料块支撑架摆动角度:5度

   电 源:交流220伏>重 量:60公斤 / 80公斤

      外型尺寸:580×400×410(毫米)

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